但这个笨小孩有恒心、阿里阿里有意志，书画功夫下了一辈子，非人磨墨墨磨人，他把自己从璞玉磨成了温润的美玉。

常见CVD包含以下三种1.APCVD常压化学气相堆积（AP-CVD），公益是指在大气压及400~800℃下温度进行反响，公益用于制备单晶硅、多晶硅、二氧化硅、掺杂SiO2等薄膜。·机械和东西工业——————耐磨涂层：榜揭如氮化钛（TiN）、榜揭碳化钛（TiC）和类金刚石碳（DLC）涂层，用于刀具、模具和机械零部件，进步耐磨性和使用寿命。

装饰性涂层：职工用于挂钟、珠宝、手机外壳和眼镜框的装饰性涂层，供给漂亮的外观和耐磨性。杰出的薄膜均匀性：累计经过准确操控工艺参数，取得均匀性好、厚度共同的薄膜。防腐蚀涂层：阿里阿里经过CVD能够堆积耐腐蚀涂层，如氮化钛（TiN）和碳化钛（TiC），用于维护金属外表免受腐蚀。

早在1974年，公益芬兰资料物理学家TuomoSuntola开发了这项技能，并取得百万欧元千禧技能奖。这层膜能够有各式各样的资料，榜揭比方绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。

依据反响条件（压强、职工前驱体）的不同又分为常压CVD（APCVD）、职工低压CVD（LPCVD）、等离子体增强CVD(PECVD)、高密度等离子体CVD（HDPCVD）和原子层堆积（ALD）。

跟着集成电路的开展，累计晶圆制作工艺不断精细化，芯片结构的杂乱度也在不断进步，需要在更细小的线宽上制作。在会议进程中，阿里阿里会自动记载会议纪要、进程，会有把会议总结发送给相关人员。

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